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涂层工艺

Process

离子源辅助镀膜技术

离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。福宜采用的阳极层离子源,可以将电流控制在10A,大大提高离子密度,增多了离子源实际应用领域。
从20世纪60年代开始,人们将一定量的硼、磷或其他元素的离子注入到半导体材料中,形成掺杂。掺杂的深度可用改变离子的能量来控制;掺杂的浓度可通过积分离子流强度来控制。离子注入方法的重复性、可靠性比扩散法好。离子注入掺杂在半导体大规模集成电路的生产中已成为重要环节,用离子注入法取代旧的扩散等工艺在有些器件中已成为必然趋势。
离子注入在金属材料的改性中获得的结果十分引人注目。在常用金属的离子注入改性中,可以提高金属的硬度、抗腐蚀性能和抗疲劳强度,降低金属的磨损率。某些绝缘材料如陶器、玻璃、有机材料经离子束照射以后,性质发生重要的变化,获得新的用途。
离子束照射和掺杂的过程是非热平衡过程,因此用这种方法可以获得用一般冶金和化工方法无法得到的新材料。能量较低(50~400keV)的专门用于离子注入的小型加速器"离子注入机",已成为一种专门设备,在类金刚石材料、高温超导材料、磁性材料、感光材料等的研究中,已广泛应用离子束。