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涂层工艺

Process

偏压辅助镀膜技术

偏压电源(Bias power supply )是真空电弧离子镀及其它真空物理气相沉积设备中一个重要组件,在镀膜工艺流程中为工件提供负(或正)偏压。
1)提高真空等离子体内带电粒子的能量,轰击清洗所镀工件表面,使工件表面经受高能粒子撞击后得到崭新的表层,从而提高后续沉积膜层的结合力
2)提高并控制真空等离子体内带电粒子的能量,提高膜层与工件基体结合力
3)靠不同的电压输出极性或方式改变沉积规则,调整膜层颜色
4)克服偏压电源工作于真空等离子体环境中,由高电压引起的阴极弧光放电烧伤工件