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涂层工艺

Process

低温离子镀膜技术

离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术,将各种气体放电方式引入到气相沉积领域,整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子镀大大提高了膜层粒子能量,可以获得更优异性能的膜层,扩大了"薄膜"的应用领域。是一项发展迅速、受人青睐的新技术。
广义来讲,离子镀膜的特点是:镀膜时,工件(基片)带负偏压,工件始终受高能离子的轰击。形成膜层的膜基结合力好、膜层的绕镀性好、膜层组织可控参数多、膜层粒子总体能量高,容易进行反应沉积,可以在较低温度下获得化合物膜层。
低温离子镀膜在一般离子镀膜的基础上,采用先进的固态弧源,进一步细化颗粒,在原有基础上提升两个数量级,可以在薄膜材料上制备化合物膜层。